Katte sihtmärk on pihustusallikas, mis moodustab substraadile erinevaid funktsionaalseid kilesid, pihustades sobivates protsessitingimustes magnetroni pihustamise, mitmekaarelise ioonkatte või muud tüüpi kattesüsteemide abil. FANMETAL võib pakkuda mitmesuguseid metallkatte sihtmärke, näiteks99,95% tsirkooniumi pihustussihtmärgid, Kõrge puhtusastmega kroomi pihustussihtmärgidvõi 99,5% booripritsimise sihtmärgid. Tere tulemast meiega e-posti teel ühendust võtma.
1. Kaunistuskate
Dekoratiivkate viitab peamiselt mobiiltelefonide, kellade, prillide, sanitaartehnikatoodete, riistvaraosade ja muude toodete pinnakattele. See mitte ainult ei kaunista värvi, vaid täidab ka kulumis- ja korrosioonikindluse funktsioone. Peamised dekoratiivkatte sihtmärkide tüübid on: kroomi (Cr) sihtmärk, titaan (Ti) sihtmärk, tsirkoonium (Zr), nikkel (Ni), volfram (W), titaanalumiinium (TiAl), roostevabast terasest sihtmärk jne.
2. Tööriista ja vormi kate
Seda kasutatakse peamiselt töötlemistööriistade välimuse tugevdamiseks, mis võib oluliselt parandada vormide kasutusiga ja töödeldud osade kvaliteeti. Statistika järgi on arenenud riikides tööpinkide katte osakaal ületanud 90%. Ka tööriistade pinnakatte osakaal meie riigis kasvab pidevalt ning nõudlus tööriistade pinnakatte sihtmaterjalide järele kasvab iga päevaga. Peamised tüübid on: TiAl sihtmärk, kroomalumiinium (CrAl) sihtmärk, Cr sihtmärk, Ti sihtmärk jne.
3. Kaitsev kate
Seda kasutatakse peamiselt aluspinnale, et kaitsta ja pikendada selle kasutusiga. Kaitsekilede hulka kuuluvad korrosioonikaitsekiled, määrdekiled ja termokaitsekiled. TiC pihustatud kilesid ja BN pihustatud kilesid kasutatakse sageli lõike- ja lihvimistööriistade suure kõvadusega katetena.
4. Elektriline kate
Pihustavaid sihtmärke saab kasutada juhtivate materjalide ja dielektriliste kilede, ülijuhtivate kilede ja ITO-kilede tootmiseks pooljuhtseadmetes ja integraallülitustes.
5.Päikesepatarei kate
Praegu on päikesepatareid välja töötatud paljude põlvkondade jooksul. Esimene neist on monokristallilised räni päikesepatareid, teine põlvkond on amorfne räni ja polükristalliline räni päikesepatareid ning kolmas põlvkond on õhukesed päikesepatareid. Pihustamisprotsessis valmistatakse kaadmiumtelluriidkile (CdTe), vask-indiumgalliumseleniidi (CIGS) kile ja arseeni. Kõige tavalisem meetod galliumkloriidi (GaAs) õhukeste kilede jaoks. CIGS-i pihustussihtmärk on pommitamissihtmärk, mida esindavad päikeseenergia rakendused. See koosneb neljast metallist elemendist, nimelt vasest (Cu), indiumist (In), galliumist (Ga) ja seleenist (Se). Päikesepatarei pihustatud CIGS-kile eeliseks on tugev valguse neeldumine, hea elektritootmise stabiilsus ja kõrge muundamise efektiivsus. See võib panna päikesepatarei tootma päeva jooksul pikka aega elektrit ja tootma suures koguses elektrit. Katmisprotsessi ajal mõjutavad CIGS-i pihustusobjekti puhtus ja kvaliteet otseselt toodetud kile kvaliteeti.
